“我们全球半导体集团研究将光刻胶通常分为两种，”
“即正胶和负胶”
“正性光刻胶也就是所谓的正胶”
“英文名字我们叫做他positive photoresist”
“他是曝光部分溶于显影液”
“而未曝光部分不溶于显影液”
“这样一来显影后衬底上剩余的光刻胶图形与掩膜板上的目标图形相同”
“负性光刻胶我们叫做负胶”
“英文名字我们起名叫做negative photoresist”
“他在光刻机的生产中主要作用就是曝光部分不溶于显影液”
“而未曝光部分溶于显影液”
“显影后衬底上剩余的光刻胶图形与掩膜板上的目标图形为互补关系”
“因此我们研究发现对于正胶来说”
“光刻完成后”
“需要对没有光刻胶保护的基底部分进行刻蚀，最后洗去剩余光刻胶”
“这样就可以实现了半导体器件在基底表面的一步构建过程”
“张成先生没想到你们全球半导体集团在光刻机上有着这么深的研究”
“在今天的半导体行业，你们走在最前面了”
“你们很了不起啊”
“麦斯先生客气了”
“其实光刻机这一块我们也是有着很多分类的”
“分类?”
“是的麦斯先生”
“张成先生我没有想到你们在这方面也是有着这样多个类型的研究的”
“张成先生你方便给我们介绍一下么？”
“可以的，麦斯先生你是客人，这个要求我们绝对可以满足你的”
“谢谢张成先生的心意”
“不客气麦斯先生”
“我们全球半导体集团将光刻机根据用途的不同”
“我们分为用于生产芯片、用于封装和用于LEd制造等”
“我们根据光源的不同”
“可分为紫外光源也就是UV”
“深紫外光源也就是dUV”
“极紫外光源也就是EUV”
“光源的波长影响光刻机的工艺”
“像极紫外光刻机”
“我们选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源”
“全球半导体集团目前主要采用的办法是将准分子激光照射在锡滴液发生器上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源”
“在光刻机的操作上我们根据操作方式的不同”
“我们再次将光刻机分为”
“接触式光刻”
“直写式光刻”
“投影式光刻”
“接触式光刻接触式光刻掩膜板直接与光刻胶层接触”
“这种光刻机所曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单”
“我们还根据施加力量的方式，接触式不同又将光刻机进行了分类”
“软接触”
“硬接触”
“真空接触”
“其中软接触就是把基片通过托盘吸附住”
“就是类似于匀胶机的基片放置方式”
“掩膜盖在基片上面”
“而硬接触就是将基片通过一个气压我们采用的是氮气”
“往上顶”
“知道氮气体与掩膜板接触”
“这里的真空接触就是在掩膜板和基片中间抽气，使它们更加好地贴合”
“这里面他的特点就是”
“光刻胶污染掩膜板，掩膜板容易损坏，使用寿命很短”
“目前我们实验生产在最好的条件下也是只能使用5～25次的”
“他非常容易出现累积缺陷”
“接近式光刻接近式光刻机”
“这是一种掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙”
“一般大约为2.5～25 微米”
“这种光刻机可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤”
“他可以使的掩膜和光刻胶基底能耐久使用”
“使的掩膜寿命长”
“一般光刻机的掩膜的使用寿命可以提高到10倍以上”
“图形缺陷少”
“目前接近式的工艺我们在光刻工艺中应用不是很广范”
“投影式光刻投影式光刻”
“这是一种类似于胶片摄影，通过按下快门光线通过镜头投射到胶卷上并曝光”
“之后通过洗照片”
“即将胶卷在显影液中浸泡，得到图像”
“投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术”
“据我们所知目前贵国的研发机构目前还是在讨论研发扫描投影光刻吧？”
麦斯还没有说什么呢。
队伍中一个中年男人开口说话了。
“是的张成先生”
“目前我们的研究机构就是正在理论这种你说的光刻机技术”
“我们的理论就是这种光刻机中掩膜版与图案的大小是1:1”
“也就是掩膜版上的尺寸与光刻胶上的图案尺寸相同”
“我们之所以称之为扫描”
“我们就是想的是透过一条细长的狭缝射在基底上”
“来大道曝光”
“一般是一次曝光数行，基底需要挪动位置，使光能将所有的区域都曝光”
“我们设想的工艺节点为180 毫米到130 毫米”
“在掩膜板上我们想按照掩膜板1:1来”
“进行全尺寸曝光”
“我们还有一种设想就是一种步进重复投影光刻”
“我们工程师想着是使用透镜系统将掩模上的图案在小面积上逐个投影到基底上”
“每次曝光一个小区域后，基底会移动到下一个位置，直到整个基片都被曝光”
“一个曝光区域就是一个shot”
“工程师们考虑到它是通过透镜系统投影”
“所以我们计划使用365nm紫外光时使用的是5倍版”
“也就是掩膜版上图形尺寸是实际光刻胶上的尺寸的5倍”
“所以在掩膜板上我们设想着可以设计更复杂的图形”
“但是这种方式就会增加了棱镜系统的制作难度”
“哈哈这位先生”
“我想你们没有考虑过一种扫描步进投影光刻机”
“扫描步进投影光刻?”
“是的这位先生”
“在高端的半导体制造中一般会用到此种机型”
“他主要是用于0.18 毫米工艺”
“这种光刻机在起曝光过程中”
“掩膜版在一个方向上移动，同时晶圆在与其垂直的方向上同步移动”
“这种光刻机的特点就是增大了每次曝光的视场”
“提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性”
“当然正是这些特点，因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求”
“这种通常比其他曝光机具有更高的生产效率，设计和制造都非常复杂”
“那么他的购买和维护成本都将会是很高的”
“高精度双面光刻主要用于”
中小规模集成电路”
“半导体元器件”
“光电子器件”
“声表面波器件”
“薄膜电路”
“电力电子器件的研制和生产”
“这种双面光刻机包括运动控制系统、图像处理系统、系统软件、数据I\/o处理控制单元。”
啪啪啪啪
全场掌声
“张成先生你讲的对于我们来说实在是打开眼界”
“在你之前我们的光刻机技术就是处于摸索状态”
“我们的设想和你们相比较就差的很多”
“在这一块全球半导体集团和中国却是是走在了我们前面了”
“我们只是有着简单的光刻机的理论”
“我们目前研发的光刻机和你们的相比较就差远了”
“你是？”
“张成先生”
“我介绍一下自己”
“我是美国第一家研究光刻机的公司总工程师”
张成没有想到这队伍里面居然有个美国光刻机研究机构派来的工程师
自己刚刚讲的这些恐怕对于这位工程师有着很大的启发吧？
“哈哈先生你客气了”
“希望我刚刚的演讲对你有着很大的我启发”
“张成先生你的这次演讲对于我们来说启发实在是太大了”
“你就像那大西洋上哪波涛汹涌的浪潮中的一盏明灯一样”
“给了我们的前进的方向”
“我们的光刻机也是在不断的摸索着”
“张成先生我可以将你讲的那些话记录下来么？”
“目前的美国乃至全球都是落后于全球半导体集团的”
“我们想要邀请你去美国为我们介绍一下你们的半导体技术可以么？”
张成沉思的说到“这位先生实在不好意思”
“你知道的”
“全球半导体集团目前没有合适的人选负责”
“所以也是由我来兼任着全球半导体集团的经理”
“但是我不光是全球半导体集团的经理我还是西北工业集团的总经理”
“我的事情很多的”
“西北工业集团离不开的”
“所以抱歉先生你的要求我可能达不到了”
“没关系的张成先生”
“我们始终欢迎你的到来”
“对于你为半导体行业做出的贡献我们很是认可的”
“也是我们学习的榜样”
“谢谢你的夸奖先生”
“我以后有机会一定去美国的”
“好的，张成先生”
“美国是一个自由的国度”
“我们欢迎每一个像你这样的优秀人才”
“哈哈哈先生客气了”
“全球半导体集团不光是我一个人的成就也是大家共同努力的结果”
“我们的每一个工程师的贡献都是我们全球半导体集团的建立发展的基石”
“在这些人的共同努力下才有了我们现在全球半导体今天的成就”